tert-ブチルオキシカルボニル保護基
tert-ブチルオキシカルボニル保護基またはtert-ブトキシカルボニル保護基[ 1 ]（BOC基）は、有機合成において使用される酸に不安定な保護基である。
BOC基は、水酸化ナトリウムなどの塩基の存在下でジ-tert-ブチルジカーボネートを使用して水性条件下でアミンに付加することができる。
アミンの保護は、 4-ジメチルアミノピリジン(DMAP) を塩基として 使用してアセトニトリル溶液中で実行することもできます。
アミノ酸のBOC基の除去は、ジクロロメタン中のトリフルオロ酢酸などの強酸、またはメタノール中のHClで行うことができます。[ 2 ] [ 3 ] [ 4 ] t-ブチルカチオン中間体は他の求核剤をアルキル化する傾向があるため、複雑な場合があります。アニソールやチオアニソールなどのスカベンジャーを使用できます。[ 5 ] [ 6 ] AlCl3を使用すると、他の保護基の存在下でのN -Boc基 の選択的切断ができます。
トリメチルシリルヨウ化物とメタノールの連続処理もBoc脱保護に使用できる[ 7 ] [ 8 ]。特に、他の脱保護方法が基質に対して過酷すぎる場合に使用される。[ 9 ]機構としては、カルボニル酸素のシリル化とtert-ブチルヨウ化物（1）の脱離、シリルエステルのカルバミン酸へのメタノーリシス（2）、そして最後にアミンへの脱炭酸（ 3）が挙げられる。[ 10 ]
| R 2 NCO 2 t Bu + Me 3 SiI → R 2 NCO 2 SiMe 3 + t BuI | 1 |
| R 2 NCO 2 SiMe 3 + MeOH → R 2 NCO 2 H + MeOSiMe 3 | 2 |
| R 2 NCO 2 H → R 2 NH + CO 2 | 3 |
アミン保護
tert-ブチルオキシカルボニル（Boc）基は、有機合成においてアミンの保護基として使用されます。
一般的なアミン保護法
- 常温で水に懸濁したアミンとジ-tert-ブチルジカーボネート（Boc 2 O）の混合物を単純に急速に撹拌する。これは水中反応の一例である。[ 11 ]
- 保護すべきアミンとジ-tert-ブチルジカーボネートの混合物をテトラヒドロフラン（THF）中で40 ℃で加熱する[ 12 ]
- 0℃で水酸化ナトリウムとジ-tert-ブチルジカーボネートを水とTHFに加え、その後室温まで温める。[ 13 ]
- 保護すべきアミンとジ-tert-ブチルジカーボネートの混合物をクロロホルムと重炭酸ナトリウム水溶液の二相混合物中で90分間加熱還流する。[ 14 ]
- ジ-tert-ブチルジカーボネート、4-ジメチルアミノピリジン（DMAP）、アセトニトリル（MeCN）に室温でアミンを加える[ 15 ]
BOC保護アミンは、ジ-tert-ブチルイミノジカルボキシレート試薬を用いて調製される。この試薬は脱プロトン化により、二重にBOC保護されたNH基源を与える。− 2はN-アルキル化できる。このアプローチはアミンのガブリエル合成を補完するものである。
一般的なアミン脱保護法
- 脱保護すべき保護カルバメートを酢酸エチル中の3M塩酸（HCl）と混合し、室温で30分間反応させる[ 16 ]
- カルバメートを塩酸水溶液とトルエンの混合液中で65℃で加熱する[ 17 ]
- 目的の保護化合物をジクロロメタンとトリフルオロ酢酸の50/50混合物に溶解する[ 18 ]
参考文献
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