トリシラン
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| 名前 | |||
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| IUPAC名 トリシラン | |||
| 識別子 | |||
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3Dモデル（JSmol） |
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| ケムスパイダー |
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| ECHA 情報カード | 100.132.113 | ||
| EC番号 |
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PubChem CID |
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| ユニイ |
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| 国連番号 | 3194 | ||
CompToxダッシュボード （EPA） |
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| プロパティ | |||
| H 8 Si 3 | |||
| モル質量 | 92.319 g·mol −1 | ||
| 外観 | 無色の液体 | ||
| 臭い | 不快 | ||
| 密度 | 0.743 g cm −3 | ||
| 融点 | −117 °C (−179 °F; 156 K) | ||
| 沸点 | 53℃（127℉; 326K） | ||
| ゆっくりと分解する[1] | |||
| 蒸気圧 | 12.7 kPa | ||
| 危険 | |||
| 労働安全衛生（OHS/OSH）： | |||
主な危険 | 自然発火性 | ||
| GHSラベル： | |||
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| 危険 | |||
| H250、H261、H315、H319、H335 | |||
| P210、P222、P231+P232、P261、P264、P271、P280、P302+P334、P302+P352、P304+P340、P305+P351+P338、P312、P321、P332+P313、P337+P313、P362、P370+P378、P402+P404、P403+P233、P405、P422、P501 | |||
| 引火点 | < −40 °C (-40 °F; 233 K) | ||
| < 50 °C (122 °F; 323 K) | |||
| 関連化合物 | |||
関連するハイドロシリコン | ジシラン ジシリン シラン シリレン | ||
関連化合物 | プロパン | ||
特に記載がない限り、データは標準状態（25 °C [77 °F]、100 kPa）における材料のものです。 | |||
トリシランは、化学式H 2 Si(SiH 3 ) 2で表されるシランです。常温常圧下では液体であり、プロパンのシリコン類似体です。しかし、プロパンとは異なり、トリシランは空気中で自然発火します。[2]
合成
トリシランは、アルフレッド・ストックが塩酸とケイ化マグネシウムの反応によって合成したことにより特徴づけられました。[3] [4]この反応は、1857年にフリードリヒ・ヴェーラーとハインリッヒ・バフによって既に研究されており、 1902年にはアンリ・モアッサンとサミュエル・スマイルズによってさらに研究されました。[2]
分解
トリシランの重要な特性は熱不安定性です。トリシランは、以下の理想的な反応式に従って シリコン膜とSiH 4に分解します。
- Si 3 H 8 → Si + 2 SiH 4
メカニズム的には、この分解は1,2水素シフトによって進行し、ジシラン、ノルマルシランとイソテトラシラン、ノルマルシランとイソペンタシランが生成される。[5]
トリシランは容易に分解してSiの膜を残すため、半導体などの用途にシリコンの薄層を適用する手段として研究されてきた。[6] 同様に、トリシランの熱分解によりシリコンナノワイヤが得られる。[7]
参考文献
- ^ Alfred Walter Stewart (1926). Recent Advances in Physical and Inorganic Chemistry. Longmans, Green and Company, Limited. p. 312 . 2021年5月11日閲覧。
- ^ ab PW Schenk (1963). 「シラン」. G. Brauer (編).無機化学分取ハンドブック 第2版第1巻. ニューヨーク州: Academic Press. p. 680.
- ^ ストック、アルフレッド;カール・ソミエスキ (1916)。 「Siliciumwasserstoffe. I. Die aus Magnesiumsilicid und Säuren entstehenden Siliciumwasserstoffe」。Berichte der Deutschen Chemischen Gesellschaft。49 : 111–157 .土井:10.1002/cber.19160490114。
- ^ ストック、アルフレッド;シュティーベラー、ポール。ザイドラー、フリードリヒ (1923)。 「Siliciumwasserstoffe、XVI.: 水素化ケイ素をヘヘレン」。Berichte der Deutschen Chemischen Gesellschaft (A および B シリーズ)。56 (7): 1695 ～ 1705 年。土井:10.1002/cber.19230560735。
- ^ Vanderwielen, AJ; Ring, MA; O'Neal, HE (1975). 「メチルジシランおよびトリシランの熱分解の速度論」アメリカ化学会誌. 97 (5): 993– 998. doi :10.1021/ja00838a008.
- ^ 米国特許出願公開番号US 2012/0252190 A1、2012年10月4日。Zehavi et al.
- ^ Heitsch, Andrew T.; Fanfair, Dayne D.; Tuan, Hsing-Yu; Korgel, Brian A. (2008). 「溶液−液体−固体（SLS）法によるシリコンナノワイヤの成長」アメリカ化学会誌. 130 (16): 5436– 5437. doi :10.1021/ja8011353. PMID 18373344.
